반오염을 가진 전자 부품 정화 시스템에 대한 초순 제어 장치와 함께 측정 밸브

반도체 및 회로판을 처리하는 전자 부품 청소 시스템에 특별히 설계된 것,우리의 미터 밸브는 오염을 방지하는 동시에 초순한 청소 액체의 통제를 보장합니다밸브는 민감한 반도체를 손상시킬 수있는 입자 분출 (≤1 입자 / mL, ≥0.5μm) 을 방지하기 위해 Ra 0.05μm 가늘고 PFA 부피가있는 초순한 내부 구멍을 갖추고 있습니다.

DI 물 (18.2MΩ*cm) 및 IPA와 호환되는 밸브는 SEMI F021 전자 청소 표준을 충족하는 페르플루오레스토머 밀폐를 사용합니다..1%의 오류 허용, 그것은 미세 구성 요소 청소 요구 사항에 완벽하게 적응합니다. 오염 방지 디자인은 청소 액체와 공기의 접촉을 방지하기 위해 폐쇄 된 루프 흐름을 통합합니다.최적의 순수 수준을 유지합니다..

• PFA 부피가 있는 초순공구 (Ra 0.05μm) 는 ≤1 입자/mL의 오염 통제를 보장합니다.
• DI 물/IPA 호환성 퍼플루오로 엘라스토머 밀폐는 SEMI F021 표준을 충족합니다.
• 정밀한 흐름 제어 (0.1-10mL/min, ±0.1% 오류) 마이크로 전자 구성 요소에 적응
• 닫힌 루프 흐름 설계는 공기 접촉을 피함으로써 청소 액체의 순도를 유지
• 자동화 프로세스를 위한 초음파 청소 기계와 호환된다